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  • ZML10ADMD无掩膜光刻机
    ZML10ADMD无掩膜光刻机 更新日期:2026-02-09        型号:ZML10A        厂商性质:生产厂家

    泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合优良的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所得”,极大提升了操作便捷性和工艺可控性。

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  • ZEL304G电子束光刻机
    ZEL304G电子束光刻机 更新日期:2026-02-09        型号:ZEL304G        厂商性质:生产厂家

    泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)是一款高性能、高精度的光刻设备,专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用优良的场发射电子枪,结合一体化的高速图形发生系统,确保光刻质量优异且效率高。

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