泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合优良的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所得”,极大提升了操作便捷性和工艺可控性。
查看更多
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)是一款高性能、高精度的光刻设备,专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用优良的场发射电子枪,结合一体化的高速图形发生系统,确保光刻质量优异且效率高。
查看更多版权所有©2026 安徽泽攸科技有限公司 Al Rights Reseved 备案号:皖ICP备17025148号-2 Sitemap.xml 管理登陆 技术支持:化工仪器网