电子束光刻机

【产品概述】泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）是一款高性能、高精度的光刻设备，专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用优良的场发射电子枪，结合一体化的高速图形发生系统，确保光刻质量优异且效率高。

产品型号：ZEL304G
更新时间：2026-02-09
访问量：33
厂商性质：生产厂家

产品详情

标配的高精度激光干涉样品台能够满足大行程高精度拼接和套刻需求，为复杂实验和生产任务提供可靠支持。其核心优势在于成像能力和灵活的扫描模式，可实现多种矢量扫描方式，包括顺序扫描、循环扫描和螺旋型扫描，同时支持多图层自动曝光与场校准功能，满足多样化的工艺要求。此外，设备兼容多种图形文件格式，并可通过选配附件（如UPS不间断电源和主动减震台）进一步提升运行稳定性。无论是新材料研究、前沿物理探索，还是半导体、微电子、光子学及量子技术领域的应用，ZEL304G均表现出色，是科研与工程领域的理想选择。

• 产品特色

▲ 激光干涉样品台：激光干涉样品台，满足大行程高精度拼接和套刻需求

▲ 场发射电子枪：高分辨场发射电子枪是光刻质量的重要保证

▲ 图形发生器：在保证超高速扫描的同时实现超高分辨率图案绘制

• 应用案例